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1.測量控制體系,是指為實現(xiàn)測量過程的連續(xù)控制和計量確認所需的一組相關(guān)的或相互作用的要素。
(1)測量控制體系是由( )兩部分組成的。
A、測量設(shè)備的校準
B、測量設(shè)備的計量確認
C、測量設(shè)備的分析控制
D、測量過程實施的控制
(2)測量控制體系的目標,在于控制( )產(chǎn)生的不正確的測量結(jié)果及其影響。
A、測量設(shè)備
B、測量設(shè)備的校準
C、測量過程
D、測量設(shè)備的檢定
(3)測量控制體系采用的方法不僅是測量設(shè)備的校準/檢定,還包括( )對測量過程的變異做出評價。
A、控制人為因素
B、控制環(huán)境影響
C、應用統(tǒng)計技術(shù)
D、確定測量特性值
2、測量設(shè)備是為實現(xiàn)測量過程所必須的測量儀器、軟件、測量標準、標準物質(zhì)及輔助設(shè)備的組合。
(1)測量設(shè)備是對測量所包含的( )的總稱。
A、各等級的測量標準
B、硬件
C、各類參考物質(zhì)
D、軟件
(2)對與測量設(shè)備連接的各種輔助設(shè)備,下列( )說法是正確的。
A、輔助設(shè)備不會直接影響測量的準確可靠程度
B、輔助設(shè)備本身不能給出量值
C、沒有輔助設(shè)備不會影響進行測量的準確可靠程度
D、輔助設(shè)備有時會影響測量的準確可靠程度
(3)作為檢驗用的測量設(shè)備,以下( )是輔助設(shè)備。
A、卡尺
B、定位器
C、模具
D、設(shè)備使用說明書
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(責任編輯:中大編輯)